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CMP Conditioners

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产品详情
高品质、高可靠性护垫护发素,满足多样化需求在半导体器件和晶圆的制造过程中,随着接线变得越来越精细和多层,对平面化的需求逐年增加。在用作平面化技术的CMP工艺中,抛光垫的调理在稳定抛光特性方面发挥着重要作用,25年多来,我们一直提供高质量,高度可靠的护发素。 我们继续为CMP工艺的稳定做出贡献,提供各种形状和规格的护发素,以满足各种需求。
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